無限遠校正顯微鏡的光學系統設計使輔助設備的插入，如垂直照明和中間管，在物鏡和目鏡之間的光學路徑而不引入的球面像差，需要重點改正，或創建其他的圖像的問題。在一個有限的光學系統，光線穿過的物鏡集中在圖像平面上產生圖像。情況是無限遠校正光學系統的物鏡產生的磁通平行光成像在無窮遠處的波列不同，都成了焦點在由管透鏡中間圖像平面。本教程將探討如何變化，管透鏡和物鏡焦距影響在無限遠校正顯微鏡物鏡的放大倍率。

奧林巴斯顯微鏡與主要的光學列車組件初始化教程（聚光鏡，標本，物鏡，管透鏡，和目鏡）的虛擬無限校正顯微鏡出現在窗口。一束半相干光源所產生的經過冷凝器聚焦在樣品平面，隨后被收集的物鏡。光線退出物鏡平行的磁通集中的管透鏡在中間圖像平面位于目鏡固定光闌。距離管透鏡和目鏡之間的隔膜固定可調范圍內的160和200毫米的使用參考的焦距長度（L）滑塊（相當于管長度在舊的顯微鏡）。另外，物鏡焦距可以從2變化到40毫米的旋鈕物鏡焦距（f）滑塊。由于這些滑塊轉換，虛擬顯微鏡的單個組件被調整到新的位置。

操作指南，使用參考焦距和物鏡焦距滑塊來改變虛擬無限光學系統的規格。物鏡放大倍率（M）除以參考焦距計算（l）由物鏡焦距鏡頭（管F）。顯微鏡的關鍵焦距參數變化的計算，這是自動執行的結果是不斷更新的空間中顯示的物鏡在教程窗口繪圖的權利。例如，一個參考的焦距為180毫米和18毫米物鏡焦距放大10倍的產量。該物鏡工作距離也提出了圖形和顯微鏡的焦距調整更新。

正如先前上市，一個無限系統的基本光學元件為物鏡，管透鏡，和目鏡。試樣位于物鏡前焦點平面，將透過或從試樣的中央部的反射光和產生的光線投射在顯微鏡下對管透鏡光軸平行束。的光到達物鏡的一部分來自于試樣的邊緣，并進入在斜角度的光學系統，推進對角（但仍在平行束）向管透鏡。所有的光聚集在管透鏡，然后集中在中間圖像平面上，并隨后放大目鏡。

在一個有限的固定長度的光學系統，光線穿過的物鏡是向中間圖像平面（位于目鏡前焦點平面）和收斂，在這一點上，接受建設性和破壞性的干擾產生的圖像。情況是無限遠校正光學系統的物鏡產生的磁通平行光成像在無窮遠處的波列不同（通常稱為無限的空間，和標記在教程的窗口），成為關注的焦點在由管透鏡中間圖像平面。應當指出的是，物鏡為無限遠校正顯微鏡通常不與那些用于有限可互換的（160或170毫米）的光管長度的顯微鏡和反之亦然。無限的鏡頭受到增強的球面像差上使用時，由于缺乏一個管透鏡有限顯微鏡系統。在某些情況下，它是可能的，但是，在無限遠校正顯微鏡利用有限的物鏡，但有一些缺點。有限的物鏡的數值孔徑的損害時，他們使用無窮大系統，從而降低分辨率。同時，齊焦是有限與無限時使用的相同的系統物鏡之間失去了。工作距離和有限物鏡放大也將下降時，他們使用一個具有管透鏡顯微鏡。

在無限遠校正鏡管的長度被稱為參考焦距160和200毫米之間的范圍內，這取決于制造商。在無限系統的光學像差校正是通過管透鏡或物鏡（的）。殘余橫向色差無限物鏡可以通過仔細管透鏡的設計很容易補償，但一些制造商選擇正確的球面像差和色差物鏡本身。這是可能的因為專有的玻璃新公式，具有非常低的分散體的發展。其他制造商利用修正的兩管透鏡和物鏡。