在明反射光顯微鏡，適當地使用圖1中所示的兩個變量的隔膜，孔徑光闌（更接近光源）的視場光闌（更接近試樣），使能使用非常可取的科勒照明。

這些隔膜是在相反的是其各自的位置在透射光中，孔徑光闌即接近到光源。這種照明提供了明亮的光線均勻地分散在各個領域的重點標本的平面。科勒照明提供無眩光，光利用物鏡的數值孔徑與良好的對比度和分辨率一致的*大份額。

重要的是注意，在這些反射光的系統中，物鏡具有雙重功能：在途中作為匹配正確對準校正聚光鏡;在途中以習慣的角色，作為圖像形成物鏡投影的圖像承載射線朝向目鏡。在透射光的系統中，改變的物鏡需要調整聚光鏡的數值孔徑相匹配的新的物鏡。然而，在反射光中的物鏡和聚光鏡的數值孔徑的變化的同時，一個新的物鏡。共軛的平面是類似的透射光，所述圖像形成的物鏡和范圍內的孔徑光圈的光圈開度的后焦面的光源。這是為了減少復雜性，建立科勒照明的條件下，在反射光顯微鏡。

科勒照明（除了提供分散均勻的照明）是一個功能，以確保該平場的物鏡將是能夠提供出色的分辨率和良好的對比度，即使光源是一個螺旋燈絲燈泡。孔徑光闌控制反射光的光的角度從各個方位在明在全錐形撞擊試樣。的物鏡的數值孔徑決定可被“捕獲”，因為它是從試樣反射光的角度。在其他因素相同，更高的數值孔徑的物鏡，更好的分辨率，即更好的物鏡是能夠清楚地分開緊貼在一起的小細節。該系統的垂直照明包含孔徑光闌，使背部的物鏡本身沒有被遮擋。

科勒照明光學系統，該系統被布置（圖2），使燈泡燈絲的線圈的圖像被聚焦的平面處的孔徑光闌，它也是在物鏡的后焦面的焦點。假設再沒有磨砂對所述照射器的光路中的過濾器，當一個目鏡被刪除，可以看出，在后面的物鏡的圖像的燈絲。在大多數系統中，燈殼外有一組圍繞螺絲（圖3），這使中心在南北或東西方向移動燈絲燈泡的燈絲。此外，觀察在物鏡的后焦面的孔徑光闌被關閉或打開，如上所述。

集中的試件，在平面的中間像平面的固定光闌的目鏡，眼睛的視網膜，視場光闌的共軛（預聚焦）。

反射光顯微鏡是越來越大的興趣，尤其是在考慮到其在熒光顯微鏡的用途越來越。快速增長的半導體行業也導致增加使用反射光顯微鏡，這是非常有用的經典應用，如金相，礦石巖石學，材料研究。

在實踐中，*聚焦在試樣中倍物鏡，通常是10倍，和預聚焦視場光闌的孔徑關閉，直到它是可見的視場的外周。如果不在中心位置，視場光闌的垂直照明燈的中心螺絲用于移動到該字段的中心的部分關閉的光圈開口。然后打開隔膜，直到它只是從視圖中消失，或在顯微攝影光罩拍框劃定的區域。接著，對燈絲的中心聚焦（如果還沒有在工廠完成），孔徑光闌被設置為*佳試樣的對比度和圖像質量。在下面的小節中詳細討論這些步驟。

目鏡視場光闌

• 選擇的樣品具有高程度的反射率，*大限度在初始科勒照明配置步驟，到物鏡反射回來的光的量。一個理想的選擇是一個集成電路，一個邊的高度拋光的金屬，高反射率的硅或平滑的金屬薄膜上。檢體應該具備一定程度的細節或紋理，可用于找到標本的焦平面。

• 放置在舞臺上的反射試樣，并激活光源，這通常是一個類似于圖3中示出一個定位在燈殼體的鎢鹵素燈泡。旋轉物鏡轉換器定位一個中等倍率的物鏡，如10倍，對著試樣。如果燈泡正常工作時，一個小圓圈的直徑約為3毫米的光被投射到試樣的表面上的物鏡。

• 雖然看物鏡和標本，使用粗調旋鈕提高階段，直到它是一個兩毫米以下的鏡頭前的物鏡。要非常小心，不要進入物鏡前透鏡驅動試樣。接下來，通過目鏡觀察樣品，慢慢降低階段（*）粗，然后微調旋鈕，直到試片細節都成為大家關注的焦點。如果錯過對焦點，從頭再來物鏡前透鏡和標本之間的距離略少。在許多情況下，更容易找到正確的聚焦，如果試樣在嘗試建立焦點移動。做到這一點，通過旋轉360度的圓形階段，或使用機械載物臺旋鈕向后和向前視翻譯試樣的。

• 調整瞳距雙目顯微鏡，一旦標本是在大家關注的焦點。 每個目鏡屈光度調整也應該在這個時候。

• 許多偏振和微分干涉差顯微鏡（DIC），并備有循環畢業階段，一個完整的360度旋轉，繞光軸的顯微鏡。這些顯微鏡通常配有每一個物鏡的個別調整（通過在物鏡轉換器的緊定螺釘），以允許物鏡的光軸與顯微鏡的光軸同心。這是一個好主意，做了這個調整，然后再繼續。



• 接下來的步驟是，調整視場光闌，這是*近的前面的顯微鏡，如圖4中所示的可變光闌。有時隔膜被標有“ F “或” 場 “直接在照明器殼體。使用杠桿調整收視場光闌，直到你開始看到在視場中的葉子。繼續關閉隔膜桿停止的地步，只有一個小口是在目鏡可見。的試件和膜片的葉子應當兩者是形成了鮮明的焦點，，是通常由在出廠時，因為*現代化的反射光顯微鏡被沒有配備以調整視場光闌的軸向位置（它可以不被集中）的設置。這是因為物鏡供應也聚光鏡的雙重作用，所以關鍵焦平面出廠時預設的顯微鏡對準錯誤降到*低。在大多數情況下，會出現的焦點和視場光闌的中心在各物鏡的略有不同，但這種波動小，通常可以忽略不計。

• 一組圍繞旋鈕的位置上的外殼的垂直照明器，允許用戶在視場中心的視場光闌附近的視場光闌。使用這些旋鈕中心視場光闌圖像，然后慢慢打開光圈葉片直至隔膜圖像的視野之外。如果顯微攝影是首要的考慮因素，應該打開視場光闌只有足夠寬，以允許在拍框（刻成顯微攝影光罩）概述可見。更改物鏡不會需要調整視場光闌大小設置，因為新的物鏡也將作為聚光鏡的關系將保持不變。這是很容易驗證閉視場光闌的顯微攝影或預先確定的大小，測量分劃板。改變物鏡后，在視場中的圖像的大小將發生變化，但不會視場光闌的大小之間的關系，分劃板。

長絲對齊和光圈調整

• 正如科勒在透射光照明，調整光圈（“聚光鏡”）在反射光中，減少衍射眩光文物，標本的對比控制和生產**的圖像質量是至關重要的。燈絲的形象應該成為市場關注焦點，并完全填補了光圈，用透射光的情況類似。

• *步是中心，并集中在燈絲。一些現代的反射光顯微鏡（尤其是高端的研究模型）配備預先中心的鎢鹵燈在殼體中，還配備了聚光透鏡和擴散屏幕。有沒有這些系統的調整，但年齡較大的落射照明系統具有燈必須為中心，并提供用于此物鏡的調整機制。*步是刪除（如果可能的話）的玻璃擴散傳播的過濾器，在視場照度均勻。接下來，使用調整旋鈕（參見圖3）為中心的燈絲，同時觀察在物鏡的焦平面的共軛像。這是在透射光顯微鏡的目鏡，其中將被刪除，在物鏡后焦平面通過眼管聚光鏡光圈和燈絲圖像查看類似的方式。邀請游客和學生探索燈絲定位在以下交互式Java教程：

• 當目鏡除去從眼睛管的燈絲（銳聚焦），圖像應該是在物鏡的后焦面可見，隨著部分閉合的孔徑光闌。這一觀察結果容易通過使用相望遠鏡，勃氏鏡（通常找到偏振光顯微鏡的附件），或通過與在中心的銷孔的端蓋。后者可以從目鏡插頭，用于在運輸過程中保護顯微鏡的內部。如果地面還沒有得到玻璃擴散屏幕（或不能）的情況下操作，均勻照明的光磁盤應出現在燈絲線圈的地方。如果燈絲不在中心位置，“熱點”將出現在光磁盤中，燈箱（圖3）上，通過調整螺釘可以補救。不斷進行增量調整，直到照度均勻在整個光磁盤。

• *后一步是調整光圈，這通常是由字母“ A “或” 光圈 “的垂直照明的外觀上識別開幕。在透射光顯微鏡，聚光鏡孔徑光闌必須重新調整每次入光路中插入不同的數值孔徑的一個新的物鏡。這是由于這樣的事實，物鏡和聚光鏡是單獨的實體，并改變物鏡的數值孔徑不影響聚光鏡。為了彌補這一缺陷，在聚光鏡孔徑光闌必須被打開或關閉，以提供相匹配的物鏡的數值孔徑的照明的光錐。然而，在反射光顯微鏡的物鏡也作為聚光鏡（如上所討論的，同時提供照明，圖像形成的光通路），并選擇一個新的物鏡時，數值孔徑相應的改變。

• 確定正確的光圈設置獲得衍射文物的圖像是*重要的，擁有足夠的對比度和*高質量的。通常情況下，這個結果從一個權衡之間達成一個妥協，*大限度地提高圖像對比度不引入錯誤的文物由于折射和衍射。正如上文所述，與各物鏡的變化在透射光顯微鏡孔徑光闌必須復位。然而，在反射光顯微鏡的物鏡和“聚光鏡”的變化，同時為單位遞增，數值孔徑和一個單一的設置可以選擇的孔徑光闌。此設定為通常為60至95％的開放，但會有所不同，從試樣試樣，將在很大程度上取決于試樣的反射率。高反光的標本將需要一個較小的光圈以減少眩光和增強對比度，但是這是*好的情況下，逐案基礎上進行。*好的程序是先打開光圈，*寬的設置，然后慢慢地靠近它，一邊欣賞標本優化對比度。顯微攝影，它往往是明智的，“支架”的一組顯微照片，每一個稍微不同的孔徑大小。

以上概述的技術用于明反射光顯微鏡也適用于配備交叉極化，熒光，微分干涉對比（DIC）顯微鏡。事實上，在顯微鏡可以進行調整，而在任何這些模式科勒照明，而且往往對比度增強功能可以互換，而無需重新調整顯微鏡的照明。