奧林巴斯顯微鏡的散光像差
散光像差類似于彗形像差，但是這些構件是不敏感的孔徑尺寸和更強烈地依賴于光束的傾斜角。 像差被顯示為一條線，而不是一個點或橢圓形的試樣點的離軸圖像表現。 根據進入鏡頭的離軸光線的角度，該線圖像可被定向在兩種不同的方向，切線方向（經向）或矢狀（平展）。 單位圖像會減弱的強度比，以定義，詳細地說，與此相反的丟失作為離中心的距離增大。
教程初始化與出現在該小程序的左手側的窗口中的牛肺動脈細胞的熒光顯微照片。 該電池是三用DAPI染色，BODIPY和MitoTracker紅CMXRos。 下面的圖像窗口中選擇標記的樣品下拉菜單，可以用來從調色板中選擇一個新的樣本。 該離軸距離滑塊用于控制教程通過引入象散的增加量進光學系統。 將滑塊移動到右側強調的切平面，而將滑塊向左說明在矢狀面上發生的影響。 當滑塊移動到左側或右側，在奧林巴斯顯微鏡圖像搖身一變以展示如何散光會出現通過目鏡（模糊的水平線而銳化垂直線，反之亦然）夸大圖。 同時，點擴展函數和艾里模式（在小程序窗口的中心部分示出）也發生變化，以模擬引入的散光。 一個四裂艾里模式時，產生的焦點設置在矢狀面和切向兩個極端之間的妥協立場。 增加散光的假想光學系統中的程度也與在該小程序的右側呈現的光線跟蹤圖。
散光像差被發現在圖中未校正的透鏡領域的外部部分，并導致了理想的圓形點圖像（艾里圖案）模糊為漫圓的，橢圓的補丁，或者線，這取決于在焦平面的位置。 如圖1中所示離軸光線穿過所述切線和弧矢面，其被共同用于定義散光的幾何形狀。 的切平面 （也稱為子午平面）中包含的主光線與透鏡（或透鏡系統）的光軸，而在矢狀面 （也稱為徑向和/或equitorial平面）只包含主光線和被定位垂直于切平面。 主光線定義為一個特殊射線從離軸點光源通過透鏡入射光瞳的中心發出的。 在一個光學系統，它是無像差的主光線也將穿過孔徑光闌的中心和透鏡的出射光瞳。
當考慮一個復雜的多元件透鏡系統，如顯微鏡物鏡，切平面是從系統中的其他的一端相干。 與此相反，在矢狀面通常會發生變化斜率作為主射線由構成該透鏡系統中，這通常會導致一系列連續變化的矢狀平面為系統的每個區域的元件偏移。 與任一矢狀或切向平面相關聯的光光束將具有不同的結構，從而導致不同的焦距為每個平面。 這種差異在焦距是衡量散光的，通常被稱為象散差 ，并且將依賴于光線的傾斜角和所述透鏡的功率（相對于所述形狀或折射率）。 作為一個對象（或檢體）的光源點移到更遠離軸射線通量進入光學系統的日益傾斜角度，從而產生較大的焦距差異。
光線趴在切線和弧矢平面的折射不同，這兩組射線相交的主光線在不同的圖像點，稱為切線影像 （切向焦平面）和矢狀線像 （矢狀焦平面;參見圖2） 。 這些光線不能產生聚焦圖像點，而是產生一系列細長的圖像，從線性到橢圓形，這取決于光學列車內的位置的。 在被稱為*小模糊圈 ，定位在所述切線圖像和矢狀線圖像之間的區域中，橢圓的長軸和短軸是相等的，并在圖像接近圓形的幾何形狀。 這些概念示于圖2，其中給出了切向和弧矢光線的主軸線，至少混亂的圓，并示出了近似的艾里圖案在該途徑中的戰略位置。
每個透鏡系統具有固有的曲率，稱為佩茲伐曲率 ，與組分透鏡元件和它們的表面曲率的折射率有關。 缺乏象散系統具有彼此一致，并躺在珀茲伐表面弧矢和子午像面。 散光的特征往往是主光線與透鏡系統的光軸，稱為視場角（ε）之間的角度的依賴性。 （圖;圖3 T）和矢狀透鏡校正散光通常由一個情節拋物線曲線，它代表了切向的位置表示（S;圖3）的圖像點的視場角（ε）的函數。 未校正的透鏡顯示一個典型的曲線如圖3（a）中，而若干小塊透鏡散光校正示于圖3（b）和圖3（c）。 散光表示切向和弧矢場的曲線（圖3（a））的相對于所述佩茨瓦爾面之間的偏離。
當散光是存在于一個透鏡系統中，從珀茲伐表面的切向場出發比由矢場顯示大三倍。 如果切向和弧矢圖像都被定位于佩茨瓦爾表面的左側（圖3的（a）），像散叫做負，欠矯正，或向內彎曲（朝該透鏡）。 當這個順序顛倒，散光矯或向后彎曲。 負透鏡引入向后彎曲成一個象散透鏡系統，而正透鏡產生的珀茲伐表面的向內彎曲。 在薄透鏡系統，一個珀茲伐表面的從理想平圖像面上的縱向離開等于二分之一的圖像高度由焦距加上透鏡元件的折射率劃分的平方。 為了校正像散，有必要以降低的象散差的值，或在切向和徑向線圖像之間的距離。 完全除去散光是困難的，但可以發生在光學系統中時，這兩條曲線，S和T，變得平坦，重合（如圖3（c）），然后將生成的圖像中的珀茲伐表面附近的區域（P）的 。
可憐的鏡片中心定位的物鏡，中間光學和目鏡之間的物鏡還是窮人比對增加散光，因為它確實昏迷。 當透鏡系統被誤組裝時，象散造成嚴重的影響，通常產生非對稱的性能在整個圖像區域。 小的傾斜角度，甚至低至5弧分，有嚴重的，導致圖像劣化。 散光誤差通常是由物鏡設計修正為提供各透鏡元件的精確間隔以及適當的透鏡形狀，孔徑大小和折射率。 散光的校正通常是完成與場曲像差校正相結合。