適當的調整和微分干涉對比 （DIC） 光學組件的對齊方式是至關重要的成像性能，所以必須顯微鏡技術人員認識到失調和組件不匹配，并采取必要的步驟，糾正這些錯誤。此交互式教程檢查錐光和鮮明 viewfields 在 DIC 顯微鏡下各種構型的圖案，并討論了很多的建議令人滿意的顯微鏡對齊方式的重要方面。

本教程使用初始化虛擬 DIC 顯微鏡置于錐光查看模式 （模擬虛擬相位差望遠鏡或貝特朗 · 鏡頭），并只起偏振器和分析儀 （傳輸軸交叉） 插入到光學通路。此外，聚光鏡隔膜已封閉，禁止它的 80%在初始化時*大光圈大小。要運行本教程中，*選擇 DIC 技術，要么得無以復加，要么de Sénarmont，從左側的視區定位的成像模式收音機按鈕的設置。下一步，物鏡從的菜單中選擇物鏡放大拉下 （默認是 10 x）。請注意當選擇了一個新的物鏡，在顯微鏡視區中觀察到的聚光鏡孔徑光闌的大小增加或按比例減小。使用聚光鏡隔膜滑塊來改變孔徑光闌的開放大小。

若要安裝在光學火車得無以復加棱鏡，使用物鏡棱鏡或聚光鏡棱鏡的單選按鈕。這些單選按鈕中的一個選擇時，視區顯示一個單一的得無以復加棱鏡，大小取決于物鏡的選擇各不相同的錐光形象。如果已選擇的物鏡棱鏡，滑塊將更改顯示文本：物鏡棱鏡平移，當在顯微鏡中得無以復加模式或偏振片方向當顯微鏡是在de Sénarmont模式。如果已選取了聚光鏡棱鏡，偏光片定位文本時將顯示顯微鏡是在de Sénarmont模式中，但將滅活滑塊，當顯微鏡是在模式中得無以復加。

在得無以復加或de Sénarmont影像模式中，可以利用滑塊來改變引入光學火車偏置遲緩。在得無以復加模式 （僅當選擇時物鏡棱鏡） 中，物鏡棱鏡平移滑塊*初是在中央的位置與添加任何偏見。平移的滑塊向右介紹負偏壓，同時滑塊向左移動的中心產生積極的偏見。本教程操作，以相同的方式在de Sénarmont模式中，除了可以選擇任一棱鏡，和偏光片定位滑塊也指示的偏光片從中央位置旋轉度數數。

要向虛擬的 DIC 顯微鏡光學火車添加兩個棱鏡 （聚光鏡和物鏡），在得無以復加或de Sénarmont的成像模式中選擇兩個棱鏡的單選按鈕。然后可以使用物鏡棱鏡平移（得無以復加模式） 或偏振方向（de Sénarmont 模式） 滑塊調整偏置。若要添加一階補償板光學通路，補償器復選框中放置一個復選標記。在上文所討論的所有情況下，虛擬的 DIC 顯微鏡可以放在鮮明的模式，通過選擇Orthoscopic單選按鈕。視區然后將揭示時虛擬的貝特朗 · 鏡頭從光學通路中刪除視野的顯示。

微分干涉對比顯微鏡對齊方式

在嘗試配置在微分干涉對比顯微鏡觀察、 檢查儀以確定是否所有必需的組件都是之前目前，和免費的皮棉、 灰塵和碎片。物鏡和聚光鏡鏡頭包含元素，應力簽名可降解性血管內凝血，圖像作為透鏡表面，劃痕和污染外國材料中的光通路可以弄臟。顯微鏡的正確對齊是實現*佳效果和產生的圖像顯示偽三維和陰影鑄的影響至關重要。許多在以下步驟中概述的步驟是不僅必要時*次調整顯微鏡的 DIC，不需要重復進行日常觀測。顯微鏡用于 DIC 調查每次應采取其他步驟。

初步的顯微鏡檢驗-檢查顯微鏡仔細地確保 DIC 的所有必要組件都已安裝，或可用并準備使用在必要的時候。卸下聚光鏡、 拆卸炮塔，并檢查得無以復加或渥拉斯頓棱鏡的條件。這些復合棱鏡的表面應清潔，無灰塵和碎屑。因為他們住在聚光鏡炮塔內，DIC 聚光鏡棱鏡很少沾染指紋，但灰塵和皮棉可以容易地流入的炮塔和土地平坦石英表面之一上。要清潔受污染的棱鏡表面，使用橡膠氣球刪除松散的纖維和塵土，和/或輕輕擦拭表面，用鏡頭薄紙或濕軟棉。小心不要劃傷表面。同樣的待遇應給予物鏡的棱鏡、 聚光鏡和物鏡外部透鏡元件、 顯微鏡目鏡透鏡，物鏡顯微鏡的基礎領域隔膜口岸 （或附加到倒置顯微鏡下觀察的支柱）。后確保關鍵部件的清潔，重新組裝顯微鏡、 安裝偏振器和分析儀，然后對齊用于科勒照明的光學系統。

安裝偏振鏡和分析器-用顯微鏡拆卸 （聚光鏡、 DIC 棱鏡和至少一個物鏡中刪除），安裝起偏振器和分析儀在他們的立場下聚光鏡及以上物鏡，分別。方式類似于偏光顯微鏡、 偏光片和分析儀定位所以他們傳輸方位角交叉在一個 90 度的角 （垂直） 到另一個。偏光片，裝入的光源和聚光鏡之間，傳統上是面向在東-西部方向，或左到右，當面臨在顯微鏡。在某些情況下，偏光片和分析儀的位置預先確定的由它們固定的位置，在安裝幀中，和這些組件只可插入顯微鏡光學通路與單一的取向。通常上偏光片山, 的一個標記指示的傳輸方向，但一些顯微鏡均配備畢業于度旋轉偏振片山。該分析儀也可能與畢業的旋鈕，可旋轉和/或可能包含一個標記，指示傳輸軸。

當交叉偏振器和分析儀 （傳輸軸面向在一個 90 度的角），人學視域出現很暗，當通過目鏡觀察到。這種情況稱為*大的物種滅絕。如果大量的光通過顯微鏡和人學視域不是黑暗的 （或幾乎是黑色的），交叉檢查，以確保起偏振器和分析器。穿過偏光片后, 插入的聚光鏡和物鏡，但不要安裝物鏡得無以復加棱鏡滑塊 （或固定的架）。旋轉到明視場位置的聚光鏡塔 （缺乏相位板或 DIC 棱鏡的插槽）。人學視域應保持黑暗，但如果這些組件 （聚光鏡或物鏡） 的任一包含緊張的鏡頭元素，一些光可能會通過。移除其中一個偏振光學元件從光學火車 （偏光片或分析儀） 之前的下一步。

建立科勒照明-在 DIC 配置 （后偏振器安裝） 之前，顯微鏡光學系統應對齊明視場觀察標本觀察使用標準的科勒技術。正確配置時，光源 （通常鹵鎢燈） 的圖像應該由收藏家鏡頭安置在燈箱或沿光學顯微鏡框架基地內火車預計聚光鏡孔徑隔膜平面上。同時，透鏡系統的聚光鏡也項目領域隔膜的圖像成標本共軛平面 （在顯微鏡的階段）。后燈燈絲已為中心 （大多數現代 lamphouses 包含一個預為中心的燈），關閉聚光鏡孔徑光闌和對齊聚光鏡與顯微鏡光學軸明視場照明 （聚光鏡塔設置為0或B的位置） 中。橫膈膜把焦點對準，疊加上使用 10 x 物鏡，突出重點標本和打開的虹膜葉子，直到只有一小部分的橫膈膜是在人學視域的外圍邊緣可見。為每個正在使用的物鏡采取類似的步驟，確保在顯微鏡配置正確，可以為每個物鏡的柯勒照明反過來通過調整的領域和孔徑的橫膈膜。DIC 的日常觀察期間，顯微鏡，應定期檢查維持，以確保那柯勒照明。

檢查物鏡后方孔徑-配置為科勒照明顯微鏡后, 插入的偏光片及分析儀和檢查的物鏡的后方焦平面與相位望遠鏡或貝特朗 · 鏡頭 （錐光觀察模式）。如果正確定位的偏光片和分析儀和顯微鏡下完全對齊，一個黑暗的滅絕交叉將出現在物鏡的孔徑，如圖 1 (a) 所示。手臂交叉滅絕的應該是光圈的光的面向垂直和水平，用少量出現在四個角 （圖 1(a))。在交叉或高雙折射的區域，這將影響完整性的交叉滅絕的緊張光學指標的亮點。此外，灰塵和林特顆粒附近 （聚光鏡或物鏡） 的共軛孔徑焦平面的位置會顯得明亮在物鏡后方孔徑下查看時。如果雙折射點存在，請檢查另一個無應變的物鏡來確定是否緊張的*物鏡或透鏡系統的聚光鏡。從物鏡或聚光鏡透鏡表面移除任何污染的塵埃和更換緊張的光學組件 （如果可能） 然后再進行下一步。

物鏡DIC 棱鏡對齊方式-通過要么插入滑塊或棱鏡的物鏡棱鏡局限于固定架 （用于利用 de Sénarmont 偏置遲緩的系統） 的安裝。一旦棱鏡是在位置，檢查的物鏡的后方焦平面再一次與相位望遠鏡或貝特朗 · 鏡頭。人學視域現在應該出現很亮，但沒有特色，延伸，在 45 度角在孔徑直徑單暗干涉條紋 （見圖 1(b)) 沿剪切軸。取決于是否在顯微鏡直立或倒置，干涉條紋將遍歷物鏡后方孔徑在東北-西南 （直立） 或 （倒） 的西北-東南方向。在任一情況下，干涉條紋圖 1 (b)，所示應明確界定，并定位在光圈的中心。

在一些 DIC 顯微鏡設計中，物鏡的棱鏡被固定的 （de Sénarmont 補償），而在其他棱鏡可以平移來來回回在的軸上光通過滑塊框架中一個定位螺釘機制。在后者的情況下，慢慢的轉動調節旋鈕在觀察物鏡后的焦平面上通過望遠鏡或貝特朗 · 鏡頭時。旋鈕是轉身，干涉條紋應任一面上的移動改變了中央的立場或明亮的后方孔徑的下半部分。或者，在 de Sénarmont 補償器轉動偏振器會產生相同的效果。

聚光鏡 DIC 棱鏡對齊-刪除物鏡棱鏡光學坐在火車上，和擺動的*低的孔徑聚光鏡棱鏡 (供使用，物鏡是 10 x) 進入位置通過旋轉的聚光鏡塔。通常由塔 （或類似的代碼，如L） 上的紅色或白色10設置標記的適當位置。重新調整的階段望遠鏡或貝特朗 · 鏡頭來觀察的干涉條紋顯示在物鏡后方焦平面中。再一次，一個單一的邊緣應存在有相同的邊緣產生的物鏡的棱鏡 （東北-西南立式顯微鏡） 或倒置顯微鏡為西北-東南方向。為聚光鏡和物鏡棱鏡干涉條紋應出現幾乎完全相同，并且應該有相同的方向沿剪切軸。

為了清楚地觀察使用為油浸泡而設計的高數值孔徑聚光鏡棱鏡干涉條紋，它可能需要刪除前透鏡裝配使用的擺動鏡頭控制杠桿。如果出現在物鏡孔徑的邊緣位置不正確，它可能需要調整的方向或聚光鏡棱鏡的對齊方式。在大多數情況下，聚光鏡棱鏡是在缺口或 pin （或鎖定螺釘），確保正確定位在聚光鏡炮塔內防護圓鋁架組裝的。偶爾，聚光鏡棱鏡可以被迫沒有正確對齊，將明顯的干涉條紋審查時炮塔。如果聚光鏡似乎沒有對齊，請檢查與顯微鏡制造商的說明進行適當的聚光鏡 DIC 棱鏡調整。

用顯微鏡標本觀察-對齊為柯勒照明，偏振器和分析儀交叉，和兩個棱鏡 （物鏡和聚光鏡） 安裝，將薄薄的透明登上的標本 （如口腔上皮細胞制備） 放在舞臺上。調整為*大的物種滅絕，顯微鏡，在觀察的過程通過目鏡鮮明模式 （沒有貝特朗的鏡頭或階段望遠鏡） 時集中標本。人學視域中觀察到的圖像應該出現很暗灰色，幾乎是黑色的在*大滅絕與明亮的高光區域有大幅定義厚度或折射率梯度 （例如，細胞的細胞膜和細胞核 ； 見圖 2(b))）。球形試樣的高折射率，如浸油滴，甚至可能作為極小的鏡片，并出現清晰的干涉條紋或波段遍歷面向同一方向邊緣是當在物鏡后方孔徑中觀察到的中部地區。

同時觀察重點的標本圖像，平移的物鏡的 DIC 棱鏡使用滑塊旋鈕或旋轉偏光片 （或分析儀） 在顯微鏡下，裝備為 de Sénarmont 補償。這次行動被稱為偏置遲緩的介紹，和將平移平分沿剪切軸試樣的干涉條紋和產生相應的變化，對試樣的外觀。移向一個方向 (正偏壓) 棱鏡將減輕標本特征在一個邊緣變暗相反邊緣上相同的功能的同時，同時減輕背景 （見圖相。一般情況下，試樣假定偽三維外觀帶有陰影鑄效果導向在剪切軸相同的方向。到另一邊的顯微鏡光學軸 (負偏壓) 移動棱鏡將反向光與暗的標本地區 （比較圖 2 (a) 與圖 2(c))。

在所有 DIC 組件正確安裝并對齊的大滅絕，物鏡的后方孔徑呈暗灰色 （幾乎黑色） 和相對統一的時候觀察階段望遠鏡或貝特朗透鏡 （圖 1(c))。在大多數情況下，中部地區的后方光圈出現烏黑而一些證據表明，光出現在外圍的四個象限。滅絕跨一般應出現非常類似于用交叉偏振片觀察獨自一人，但通常更深色和覆蓋更大區域的物鏡后方孔徑。明亮的周邊外圍 （圖 1(c)) 結果從通過光在表面的偏振鏡和鏡頭中的聚光鏡和物鏡元素的局部去極化而產生的工件。

微分干涉對比圖像可以顯著改善由明亮的區域在滅絕的邊緣交叉在物鏡后方孔徑的掩蔽。這被通過減少大小的聚光鏡孔徑光闌來消除的明亮的邊緣。一般情況下，物鏡的后方孔徑大小應與橫膈膜減少到大約 75%或 80%的全口徑。時的光學系統是在**的路線，交叉的滅絕會出現直立 (見圖 1） 和可以觀察到由組成，兩個廣泛的干涉條紋，每個形狀在正確的角度和會議中心的物鏡的后方孔徑 （邊緣可以也可視化中較低的質量顯微鏡正模式）。對一些顯微鏡，可以調整的聚光鏡和物鏡棱鏡的位置，以產量更均勻的條紋，導致在中部地區的出現更黑暗、 更均勻的孔徑。這項任務完成對松動和旋轉 （或提高或降低) 聚光鏡棱鏡或由交疊起偏振器和分析儀由一對夫婦的度。偶爾顯微鏡包含允許調整的聚光鏡和物鏡的棱鏡的固定螺絲，但如此裝備的型號越來越少。作為顯微鏡對準*后檢查，同時審查中物鏡的后方孔徑，以確定是否它可以改進的滅絕模式調整聚光鏡聚焦旋鈕。請注意重大的重新定位的聚光鏡可能會降低光學性能通過分離的物鏡和聚光鏡的 DIC 棱鏡共軛干擾飛機之間的重疊。

平移的物鏡的棱鏡，或旋轉偏光器，在 de Sénarmont 配置中，通過調整偏置發育遲滯大大提高圖像外觀 （以上，觀察到在*大滅絕），增加對比度。這個動作是成像中微分干涉對比試樣的必要條件，表示調整的顯微鏡光學火車的*后一步。在許多情況下，光的出現漸變跨整個視野的視圖時觀察 DIC 的圖像。發生這種情況除了淺色和深色強度，并在試樣的相對邊緣的存在和廣泛和隱隱綽綽場條紋神器制作的光學系統。顯微鏡具有匹配良好的光學元件*大限度的視野條紋，可以變得如此廣泛、 分布均勻的整個領域出現均勻的中等灰度顏色大小。在大多數情況下，然而，仍然是一些邊緣的證據，和人學視域陳列的光強度 （中等至亮或暗灰色底紋的） 從一個外圍邊緣到另一個淺梯度。此工件是固有的一個特定的光學配置，應觀察和收集的 DIC 標本圖像時將忽略。

補償器在 DIC 顯微鏡

試樣的對比也可以增加通過引入遲緩板 （或補償） 入在 DIC 顯微鏡的光學通路。一般情況下，全波（也稱為一階補償器） 板插入中間管之間的物鏡的棱鏡和信號分析儀，雖然偏光片之后但在聚光鏡棱鏡之前，也可以位于板。這些板塊陳列在綠色區域 （通常近 550 毫微米），指定的值在整個波長遲緩程度，導致顯示黃色和藍色的牛頓干涉色沿的折射率和厚度梯度的標本。背景被呈現洋紅色由于減法的綠色波長從白色的光。

在 de Sénarmont 或標準 （譯） 得無以復加棱鏡 DIC 顯微鏡配置中，當物鏡棱鏡定位時，消光干涉條紋在中心的光通路，模式相似，顯示在圖 1 (b) 被觀察到物鏡的后焦平面上 （前提是聚光鏡棱鏡從光路中刪除）。如果全波發育遲滯板然后放置之間的物鏡的棱鏡和信號分析儀，干擾中說明的模式圖 3 (a)，其中顯示了頻譜的牛頓干涉色，將出現在物鏡后方焦平面。從光路中刪除物鏡棱鏡和插入一個聚光鏡棱鏡收益率提出了一種在圖 3 (c) 的模式。物鏡和聚光鏡棱鏡存在并在光學列車調整到滅絕的位置，洋紅色的顏色時，可見在物鏡后焦面 （圖 3(b))。

平移的物鏡得無以復加棱鏡或旋轉偏光器，de Sénarmont 補償器配置中的將轉移牛頓干涉圖案顏色圖 3 (b) 所示。引入負偏壓將轉向牛頓顏色消減值 （黃色），而將棱鏡轉移到正面偏置值會導致添加劑顏色 （藍色）。生產的標本漸變的顏色可以為確定規模的光學路徑差異相比 Michel 征費參考圖表。