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奧林巴斯顯微鏡：CCD像素偏移技術
像素偏移技術是用來結合收集到的電荷由幾個相鄰的CCD像素時鐘方案，旨在降低噪聲和提高信號噪聲比和幀速率的數碼相機。由芯片上的的CCD時鐘定時電路，假定控制的串行和并行的移位寄存器的CCD模擬信號的放大前進行了分塊的過程。為了幫助說明像素偏移技術過程，請參閱圖1，檢討例如2×2分級。甲示意圖一個4×4并行移位寄存器的像素陣列，在圖1（a）所示，伴隨著四門的串行移位寄存器，加法像素或（也稱為一個輸出節
2020-09-04
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奧林巴斯顯微鏡：浸入介質
捕捉偏離光線從標本的顯微鏡物鏡的能力取決于兩者的數值孔徑和介質，通過它的光的行進。數值孔徑的有關通過方程的成像介質：數值孔徑（NA）= N（sin μ） 其中，μ是一個一半的孔徑角的物鏡和 n是物鏡前透鏡和標本蓋玻片之間的介質的折射率。 如明顯的數值孔徑方程上述，一個物鏡數值孔徑是成正比的折光指數（n）的在成像介質的蓋玻片和前透鏡之間，并且也1的一半的角孔徑的的罪物鏡。因為罪惡μ可以不大于90度時
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：熒光顯微鏡優化和故障排除]()
奧林巴斯顯微鏡：熒光顯微鏡優化和故障排除
熒光顯微鏡的一個重要特點是它能夠探測到熒光的對象，有時隱隱可見，甚至非常明亮與黑暗的背景（通常是黑色）。為了優化此功能，使用的引物在該部分將要討論的原則，圖像的亮度和分辨率必須最大化。 圖像亮度 - 優化的圖像的亮度的最重要的方面之一是，以確保在每個連接到試樣的發色基團的適當的波長，樣品被提供用于激勵具有足夠的光能量。同樣重要的是，選擇適當的擋板濾光鏡，向觀察管或攝像管發射的熒光的量最大化。我們已
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：熒光的基本概念]()
奧林巴斯顯微鏡：熒光的基本概念
熒光是敏感，其中創建的物理（例如，光的吸收），機械（摩擦），或化學機制從電子激發態的分子發光的無處不在的發光過程家族的成員。通過由紫外線或可見光的光子的分子的激發發光發電的是這樣一種現象稱為光致發光，正式分為兩大類，熒光和磷光，這取決于激發態的電子組態和排放路徑。熒光是一些原子和分子的屬性，在一個特定的波長吸收光，并隨后經過短暫的時間間隔更長的波長的光發射被稱為熒光壽命。發生的方法的磷光熒光的方式
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：霍夫曼調制對比的結構]()
奧林巴斯顯微鏡：霍夫曼調制對比的結構
霍夫曼調制對比系統，旨在提高可見度和對比度染色的和有生命的物質，通過檢測光梯度（或斜坡），并把它們轉換成光強度的變化。羅伯特·霍夫曼博士在1975年發明了這種技術，并采用了幾個配件，已經適應了一些商業顯微鏡。霍夫曼調制對比度的基本顯微鏡的配置在圖1中示出。一種光振幅空間濾波器，被稱為“ 調制”的霍夫曼，被插入一個消色差透鏡或平場消色差物鏡的后焦平面上（雖然也可以用于更高的修正）。通過本系統的光強度
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：激光共聚焦顯微鏡系統的結構]()
奧林巴斯顯微鏡：激光共聚焦顯微鏡系統的結構
中常用的激光掃描共聚焦顯微鏡的激光是高強度的單色光源，這是有用的工具的各種技術，包括光學捕獲，壽命成像研究，光漂白恢復，和全內反射熒光。此外，激光掃描共聚焦熒光顯微鏡的光源，也是最常見的，并已動用，雖然次數不多，在傳統的寬視場熒光調查。激光器發出強烈的包單色光的協調性和高度平行，形成一個嚴密的光束，以非常低的速度擴張。比起其它光源，由激光發射極純的波長范圍鹵鎢燈或電弧放電燈是無與倫比的帶寬和相位關
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：熒光激發和發射基本面概述]()
奧林巴斯顯微鏡：熒光激發和發射基本面概述
由于其新穎的電子配置，熒光染料有獨特的特征吸收光譜（通常是類似的激發）和發射。這些吸收光譜和發射光譜表明相對強度的熒光，與經典的相對強度與波長在橫軸上繪制在垂直軸。對于一個給定的熒光染料，制造商指示的照明激發光強度和熒光的發光強度的峰值波長為峰值波長。重要的是要了解顯示對于一個給定的熒光染料的激發和發射光譜的圖表和曲線的原點。為了確定一個特定的熒光染料的最大吸收波長（通常是相同的激發最大值）的發射
2020-09-04
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![奧林巴斯顯微鏡：反射光顯微鏡的結構]()
奧林巴斯顯微鏡：反射光顯微鏡的結構
通常被稱為反射光顯微鏡作為入射光，落射照明，或金相顯微鏡，用于熒光和成像標本仍然不透明的，即使當研磨的厚度為30微米的是所選擇的方法。屬于這一類的范圍內的標本是巨大的，包括大多數金屬，礦石，陶瓷，許多聚合物，半導體（未加工的硅晶片，集成電路），爐渣，煤炭，塑料，涂料，紙，木材，皮革，玻璃夾雜物，和各種各樣的專門材料。因為光無法通過這些標本，它必須被定向的表面上，并最終返回到顯微鏡物鏡無論是鏡面反射
2020-09-04
